ФЭНДОМ


Nanolab-> Список оборудования по категориям

ОписаниеПравить

Система состоит из центральной вакуумной транспортной системы (CVT), вакуумной подачи кассет и двух реакторов, соединенных с центральной системой вакуумной загрузки. Управление всеми блоками может быть независимым. Реакторы и транспортная система располагается в "серой" зоне, загрузочный шлюз и консоль управления - в чистой зоне.


Применение За счет комплектации системы двумя реакторами, можно проводить комбинированные процессы травления RIE/ICP и осаждения PECVD.

PECVD процессы

Осаждение пленок:

Рабочие газы:

Оксиды

100% Силан SiH4

Оксинитриды

<20% Силан

Нитриды

Аммиак

Аморфный кремний

TEOS

Карбид кремния

Диэтилсилан

Оксид азота

Кислород, Азот

Триметилсилан

Метан

Процессы травления фторсодержащими газами (SF6, CF4, CHF3, O2)

Carbon

Кварц

Epoxy

Si

GaAs/AlGaAs

SiO2

InSb

Si3N4

Ir

SiC

Mo

Ta

Nb

TaN

OxyNitride

TiW

Polyimide

TiN

Pr (e.g: SiLK or SU8)

W

Процессы травления коррозийными газами (Cl2, BCl3, SiCl4, HBr, NF3, и т.д.)

Al

Полупроводники на основе Al, As, Ga, In, P

Au

InP

Cr

Полисиликон

Cu

Pt

Углерод

Si

GaAs

SiC

GaN

Ti


Меры безопасносности при работеПравить

Меры безопасности изложены в руководстве по эксплуатации на английском языке Файл:Manual-ORAIII 121411.pdf

Типовые примеры использования/ Стандартные процессыПравить

СсылкиПравить

Обнаружено использование расширения AdBlock.


Викия — это свободный ресурс, который существует и развивается за счёт рекламы. Для блокирующих рекламу пользователей мы предоставляем модифицированную версию сайта.

Викия не будет доступна для последующих модификаций. Если вы желаете продолжать работать со страницей, то, пожалуйста, отключите расширение для блокировки рекламы.

Также на ФЭНДОМЕ

Случайная вики