ФЭНДОМ


Nanolab-> Список оборудования по категориям

ОписаниеПравить

Установка для проявления, смыва и задубливания фоторезисторов предназначена для проявления фоторезистов после их облучения в литографических установках, смыва проявленного фоторезиста и дополнительной термической обработки (задубливания) с целью улучшения физических и химических свойств резистов для последующих процессов. Установка должна иметь исполнение в едином корпусе из нержавеющей стали и иметь два встроенных модуля: модуль проявления и смыва и модуль задубливания. Управление установкой должно осуществляться при помощи микропроцессорной системы и обеспечивать одновременную работу модулей. Модуль проявления и смыва должен обеспечивать:

• возможность нанесения проявителей и деионизованной воды из баллонов высокого давления емкостью до 3,84 л;

• четыре независимых инжектора проявителей и деионизованной воды;

• использование как в полностью ручном режиме для исследовательских работ, так и в автоматическом;

• легкую замену подложки без использования специальных приспособлений;

• обработку подложки до 150 мм диаметром;

• скорость вращения 0-12000 об/мин +/-1%;

• увеличение скорости вращения - до 30000 об/мин/с ;

• возможность вращения в обе стороны. Модуль задубливания должен обеспечивать:

• возможность сушки и задубливания слоя резиста на поверхности подложек методом нагрева;

• автоматическое изменение размера зоны прогрева для стандартных размеров подложек;

• возможность нагрева подложек до температуры 300º С;

• точность задания температуры не хуже +/-0.1 град С;

• точность поддержания температуры не хуже +/-0.3% на рабочей поверхности;

• цифровой контроль заданной и измеренной температуры;

• возможность выравнивания столика по уровню;

• возможность вакуумного прижима подложек.

СсылкиПравить

The Brewer Science Cee 200DBX Описание на сайте производителя (англ.)

The Brewer Science Cee 200DBX на сайте Химмед